• 如何成功進(jìn)行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率，光掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。首先，光掩模和晶圓之間的灰塵...2024-08-23 08:57:36
• 微流控SU-8光刻膠的紫外曝光可使SU-8光刻膠可溶于或不溶于溶劑。良好SU-8 UV曝光的相關(guān)參數(shù)紫外曝光過(guò)程中光掩模和SU-8之間的接觸為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率...2017-12-21 08:58:06
• SU-8光刻膠模具軟烤（光刻膠的第一次烘烤） ；4、 邊緣光刻膠的去除（可選） ；5、 紫外曝光 ；6、 曝光后烘烤（光刻膠的第二次烘烤）；7、 顯影 ；8、 硬烘烤...2025-05-12 09:29:59
• 高深寬比光敏玻璃生產(chǎn)，具有先進(jìn)的光敏性、均質(zhì)性。該玻璃一款技術(shù)光敏玻璃。該光敏玻璃經(jīng)過(guò)紫外曝光以及熱處理后會(huì)析出晶體，這些析晶區(qū)域在酸腐蝕之后可以形成高深寬比的細(xì)小...2020-08-21 09:54:51
• ?凝膠澆筑微流控芯片的介紹模板：用光刻法制作微流控芯片結(jié)構(gòu)圖案硅片模板，包括旋涂光刻膠、軟烘焙、紫外曝光、后烘、顯影、堅(jiān)膜、硅烷化處理步驟?；旌螾DMS預(yù)聚物與聚合劑：將聚二...2025-03-27 10:36:12
• 基于玻璃基底的細(xì)胞培養(yǎng)芯片研究（上）0min此時(shí)光刻膠厚度為6~7μm。軟烘結(jié)束,利用光刻機(jī)對(duì)玻璃基底進(jìn)行紫外曝光。曝光后的ITO玻璃用顯影液AZ400K顯影，顯影過(guò)程中不斷晃動(dòng)ITO...2024-12-05 10:22:20
• 低成本微流控芯片的加工與鍵合方法（下）的粘性材料通常是具有紫外固化性質(zhì)的材料(如SU—8、干膜等)，需要經(jīng)過(guò)紫外曝光實(shí)現(xiàn)基底和蓋片材料的鍵合。此外，非紫外固化材料如蠟也可以用來(lái)進(jìn)行簡(jiǎn)易的...2024-07-23 09:39:21
• 微流控芯片制造工藝（下）來(lái)完成納米級(jí)的集成電路制造，比如電子束曝光、X射線(xiàn)曝光、離子束曝光、極紫外曝光等。此部分內(nèi)容在下一篇中介紹。?免責(zé)聲明：文章來(lái)源網(wǎng)絡(luò)? 以傳播知識(shí)、...2024-06-25 08:47:32
• 微流控光刻技術(shù)的微粒子研究現(xiàn)狀及應(yīng)用進(jìn)展(a) 通過(guò)調(diào)控紫外光強(qiáng)度分布和曝光時(shí)間調(diào)節(jié)微粒子形態(tài)。 (b) 通過(guò)紫外曝光時(shí)間和掩膜形狀控制來(lái)調(diào)節(jié)微粒子形態(tài)。(c) 通過(guò)紫外光焦平面位置和掩模...2023-11-02 11:23:23
• 如何加工一個(gè)微流控芯片的環(huán)氧樹(shù)脂SU-8模具：SU-8模具制作的提示和技巧（光刻膠的第一次烘烤）???4、 邊緣光刻膠的去除（可選）???5、 紫外曝光???6、 曝光后烘烤（光刻膠的第二次烘烤）???7、 顯影???8、...2023-07-28 08:53:56