• 微流控中的電極掩膜版的制備工藝在微流控芯片的制造過程中，掩膜版（Photomask）扮演著至關(guān)重要的角色。它也被稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版。掩膜版承載了電子電路的核...2025-05-06 10:10:10
• 光刻掩膜版的儲(chǔ)存條件光刻掩膜版（Photomask）是光刻工藝中至關(guān)重要的工具，它直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。雖然直接關(guān)于光刻掩膜版的儲(chǔ)存條件的信息較少，但我們可以從光...2025-04-28 10:01:32
• 掩膜版、模具與微流控芯片及其制作方法與用途掩膜版與光罩的區(qū)別與應(yīng)用掩膜版和光罩是半導(dǎo)體制造過程中的兩個(gè)重要概念，它們雖然都扮演著不可或缺的角色，但存在一些區(qū)別。掩膜版和光罩的概念及作用掩膜版：...2025-02-18 09:33:39
• 正性光刻對(duì)掩膜版有哪些要求正性光刻對(duì)掩膜版的要求主要包括以下幾個(gè)方面：基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因?yàn)樗哂休^低的熱膨脹系...2025-02-17 09:46:14
• 正性光刻對(duì)掩膜版的要求在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對(duì)掩膜版的主要要求：圖案準(zhǔn)確性在正性光刻中，...2024-12-20 09:48:27
• 微流控SU8掩膜版的制作方法微流控SU8掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜的工藝過程，涉及到多個(gè)步驟。以下是詳細(xì)的制作流程：1. 掩膜版設(shè)計(jì)原理圖設(shè)計(jì)：根據(jù)微流控芯片的設(shè)計(jì)要求，進(jìn)行原理圖設(shè)計(jì)，分析元件...2024-11-20 10:06:40
• 光刻掩膜版制作流程光刻掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜且精密的過程，涉及到多個(gè)步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程：1. 設(shè)計(jì)與準(zhǔn)備在開始制作光刻掩膜版之前，首先需要根據(jù)電...2024-09-14 08:44:25
• 菲林掩膜版與鉻掩模版的區(qū)別菲林掩膜版和鉻掩模版是兩種不同的掩膜版類型，它們?cè)谖㈦娮又圃爝^程中扮演著重要的角色。以下是它們之間的主要區(qū)別：定義與組成菲林掩膜版：菲林掩膜版是一種中低精...2024-09-13 09:06:50
• 掩膜版的技術(shù)迭代掩膜版產(chǎn)品誕生至今約70多年，是電子制造行業(yè)中使用的生產(chǎn)制具。由于掩膜版技術(shù)演變較慢，下游運(yùn)用廣泛且不同行業(yè)對(duì)掩膜版的性能、成本等要求不同，不同代別的...2024-09-10 10:15:48
• 光刻工藝介紹及對(duì)掩膜版的質(zhì)量要求性，這些特性共同保證了光刻過程的成功實(shí)施和芯片的高質(zhì)量生產(chǎn)。?光刻工藝對(duì)掩膜版的質(zhì)量要求?主要包括以下幾點(diǎn)：圖形尺寸準(zhǔn)確?，符合設(shè)計(jì)要求，且不發(fā)生畸變...2024-09-09 10:06:02