• 菲林掩膜版與鉻掩模版的區(qū)別菲林掩膜版和鉻掩模版是兩種不同的掩膜版類型，它們?cè)谖㈦娮又圃爝^(guò)程中扮演著重要的角色。以下是它們之間的主要區(qū)別：定義與組成菲林掩膜版：菲林掩膜版是一種中低精度的掩膜版...2024-09-13 09:06:50
• PDMS濕法刻蝕與軟刻蝕的區(qū)別幾個(gè)步驟：涂覆光敏樹(shù)脂：在PDMS表面涂覆一層光敏樹(shù)脂。曝光和顯影：通過(guò)掩模版對(duì)光敏樹(shù)脂進(jìn)行曝光，然后通過(guò)顯影液去除未曝光部分的樹(shù)脂，形成圖案?？涛g：...2024-09-20 09:42:54
• 掩膜版的技術(shù)迭代達(dá)14nm；而包括臺(tái)灣在內(nèi)的國(guó)內(nèi)廠商主要產(chǎn)能還在65nm以上。技術(shù)難點(diǎn)光掩模版的技術(shù)難點(diǎn)主要在于光刻環(huán)節(jié)中，對(duì)制程的要求、對(duì)位置精度的控制、對(duì)曝光的控...2024-09-10 10:15:48
• 芯片光刻掩膜的保存方法刻蝕出所需圖形而制成的。為了使每塊硅片能同時(shí)制作幾十至幾千個(gè)管芯或電路，掩模版上相應(yīng)有幾十至幾千個(gè)規(guī)則地重復(fù)排列的同一圖形。每個(gè)圖形之間具有一定的間隔...2024-09-04 09:28:10
• 半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程完成整個(gè)硅片的圖形復(fù)制。掩膜版制造工藝復(fù)雜，可以分為前道工藝和后道工藝。掩模版產(chǎn)品的工藝流程主要包括CAM圖檔處理、光阻涂布、激光光刻、顯影、蝕刻、脫...2024-08-19 09:52:00
• 什么是光刻掩膜版保護(hù)膜？。軟掩膜保護(hù)膜則是由聚合物材料構(gòu)成，硝化纖維樹(shù)脂長(zhǎng)期以來(lái)在G-線和I-線掩模版的保護(hù)中占據(jù)重要地位。當(dāng)光刻技術(shù)進(jìn)階至DUV波段，硝化纖維樹(shù)脂由于在這一...2024-08-16 09:49:36
• 掩膜版清洗方法和注意事項(xiàng)光刻掩模版通常被連續(xù)用作幾乎每個(gè)光刻工藝步驟中。在處理晶圓/樣品時(shí)，掩膜版通常會(huì)變臟。由于光刻過(guò)程中我們常用的接觸是光刻機(jī)需要掩膜版與光刻膠上表面緊密接觸...2024-02-28 09:39:58
• 光刻工藝介紹額繼續(xù)增長(zhǎng)。市場(chǎng)上比較常見(jiàn)的硅片加工工藝都需要20塊以上，甚至更多不同的掩模版，一些復(fù)雜的工藝可以有多達(dá)30個(gè)掩模。通常根據(jù)生產(chǎn)非常細(xì)的管線的能力來(lái)預(yù)...2023-12-21 10:56:32
• 細(xì)說(shuō)接觸式光刻機(jī)的使用原理及性能指標(biāo).1 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5 gm左右。接觸式光刻機(jī)的掩模版包括了要復(fù)制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一...2023-08-04 08:55:03
• 一文了解SU-8光刻膠刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，...2023-07-25 08:58:21