• SU-8光刻膠去膠液SU-8去膠液2020-07-07 11:18:26
• 微流控中的烘膠技術(shù)130°C，而在正膠情況下，當(dāng)堅膜溫度達(dá)到150 - 160℃時，常見的去膠液或有機(jī)溶劑的去膠能力大大降低；交聯(lián)的負(fù)阻在130 - 140℃時去膠液效...2025-01-07 10:20:54
• 光刻膠去膠工藝不是很容易實(shí)現(xiàn)的步驟。這里我們稱用于去除光刻膠的溶劑或者溶液為去膠劑或者去膠液、除膠劑，lift-off工藝中我們也稱之為剝離液。光刻膠薄膜的溶解度非...2024-07-05 09:43:47
• 微流控芯片一般光刻工藝過程光刻膠有腐蝕作用的溶液將光刻膠溶解或者腐蝕掉，從而達(dá)到去膠的目的，這里，去膠液的選擇需要遵循與襯底反應(yīng)或者不損傷襯底為前提條件。干法去膠是利用氧等離子...2024-07-04 09:13:40
• 光刻膠的硬烘烤技術(shù)工藝結(jié)束后去除。在正膠的情況下，在堅膜溫度達(dá)到150–160℃時，常見的去膠液或有機(jī)溶劑的去膠能力大大降低，交聯(lián)的負(fù)阻已經(jīng)在130–140℃時去膠液效...2024-07-01 11:48:28
• 光刻膠成分及用途特殊工藝用膠。④．配套試劑（Process chemicals）顯影液、去膠液、稀釋劑、增附劑（粘附劑）、定影液等。4.光刻膠成分光刻膠一般由4部分組...2017-10-31 17:26:19
• 基于電化學(xué)刻蝕與微電鑄工藝.1g/L）。（2）去膠。將制作完成的試驗片使用SU-8 Remover去膠液去膠。（3）剪切力測量。采用剪切法 測量各試驗片鑄層與基底的剪切力， 計...2017-10-10 08:38:48
• 微納加工- 玻璃芯片工使用到的試劑與耗材有：鉻版玻璃、掩膜、正性光刻膠、顯影液、玻璃刻蝕液、去膠液。3.汶顥股份提供微流控玻璃芯片加工、設(shè)計及定制服務(wù)項目標(biāo)配（其他尺寸可...2017-10-09 16:38:00
• 光刻膠及光刻工藝流程圖形套刻準(zhǔn)確汶顥股份提供AZ系列光刻膠和SU-8系列光刻膠及相關(guān)顯影液、去膠液等相關(guān)產(chǎn)品。歡迎來電咨詢光刻膠價格。...2017-08-23 10:15:02
• 正負(fù)性光刻膠分類限公司提供AZ 光刻膠（正膠）系列和SU-8光刻膠（負(fù)膠）系列，另外相關(guān)去膠液、顯影液有售。原裝進(jìn)口，品質(zhì)保證！0512-62525802 來電咨詢光...2017-08-22 13:05:14