汶顥股份自主開發(fā)的噴淋顯影機，是針對光刻工藝中的顯影過程而設(shè)計開發(fā)的，可以對7英寸以下(含7英寸)規(guī)格的硅片進行程控式自動化顯影。該設(shè)備可完全替代微流控芯片制作過程中的手動顯影環(huán)節(jié)，克服了手動顯影過程中的顯影液加入量不可控、硅片顯影時間不可控、同規(guī)格硅片間隔顯影效果不可控，最大程度上減少操作人員人為因素導(dǎo)致的顯影質(zhì)量問題以及硅片的損壞。那么微流控芯片中為什么要用噴淋顯影工藝呢？

圖案形成與定義

去除光刻膠：在微流控芯片的制造過程中，光刻是關(guān)鍵步驟，光刻膠被涂覆在芯片基底上，經(jīng)過曝光后，需要通過顯影步驟去除特定區(qū)域的光刻膠。噴淋顯影可以均勻地將顯影液噴灑在芯片表面，使曝光后的光刻膠與顯影液充分接觸，從而溶解掉應(yīng)該去除的光刻膠部分，精確地形成所需的微流道、微腔室等圖案。

精確圖案轉(zhuǎn)移：噴淋顯影有助于將光刻掩膜版上的圖案準(zhǔn)確無誤地轉(zhuǎn)移到芯片基底上。顯影液的均勻噴淋能夠保證整個芯片表面的顯影效果一致，避免因顯影不均勻?qū)е碌膱D案變形或尺寸偏差，從而保證微流控芯片的設(shè)計功能得以實現(xiàn)。

提高生產(chǎn)效率與質(zhì)量

快速顯影：噴淋顯影方式能夠快速地將顯影液覆蓋到芯片的整個表面，相比于其他顯影方式，它可以加快顯影過程，提高生產(chǎn)效率。

減少缺陷：均勻的噴淋可以避免顯影液局部積聚或干涸，減少因顯影液分布不均而產(chǎn)生的顯影缺陷，如殘留光刻膠、顯影過度或不足等問題，從而提高微流控芯片的良品率和質(zhì)量穩(wěn)定性。

對后續(xù)工藝的影響

為蝕刻或沉積做準(zhǔn)備：顯影后形成的光刻膠圖案為后續(xù)的蝕刻或沉積工藝提供了模板。噴淋顯影確保的精確圖案能夠保證蝕刻或沉積過程按照設(shè)計要求進行，使微流控芯片能夠?qū)崿F(xiàn)預(yù)期的微結(jié)構(gòu)和功能。

保證工藝兼容性：良好的噴淋顯影效果有助于保證光刻膠圖案的質(zhì)量，進而保證后續(xù)工藝與光刻工藝的兼容性，避免因顯影問題導(dǎo)致后續(xù)工藝無法正常進行或影響芯片的最終性能。

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