“邊膠”的形成原因和帶來的不利影響

光刻膠旋涂是特別是厚膠的旋涂和方形襯底勻膠時(shí)，會在襯底的邊緣形成膠厚的光刻膠邊即是所謂的邊膠，即光刻膠的邊緣突起，在使用接觸式光刻的情況下是有問題的：

由于邊緣光刻膠的溶劑殘留量高，即使在前烘后，掩膜板也會粘附在光刻膠膜上，會污染掩膜板。在曝光過程中，邊珠還會在光刻膠膜和掩膜板之間充當(dāng)不必要的間隙，這通常會導(dǎo)致光刻膠曝光的圖案分辨率低、尺寸誤差大或顯影后圖案的側(cè)壁不陡直等。

消除“邊膠”的措施

如果無法通過自動化設(shè)備完成去邊角工藝（EBR）的話，以通過以下措施幫助減少/消除邊膠:

盡可能使用圓形基底:使用配套EBR溶劑，利用一個帶有細(xì)噴嘴的洗瓶，在500 rpm左右動態(tài)去除邊膠；

使用一種以足夠高的旋轉(zhuǎn)速度(3000-4000rpm/min)達(dá)到目標(biāo)膜厚的膠膜；

對于非常厚的光刻膠：利用較高的加速度，在短時(shí)間內(nèi)獲得較高的旋轉(zhuǎn)速度 ；

當(dāng)光刻膠層已經(jīng)足夠干燥，但邊膠仍然有足夠的液體時(shí)，在旋涂工藝末端突然增加旋轉(zhuǎn)速度使邊膠脫離；

膠層與前烘之間的等待時(shí)間取決于抗蝕涂層的厚度和殘留溶劑的含量，以防止在高前烘溫度下膠層的粘度突然升高而增加邊膠效應(yīng)(可使用分步干燥: 室溫->50°C->95°C)；

調(diào)整良好旋涂腔室保證襯底與襯底托盤之間緊密接觸；

非圓形襯底: 如有可能的話，可將襯底邊緣片與邊緣珠一起裁切掉，或用潔凈間的刷子將邊膠刷洗掉。

除此之外，多次旋涂也是導(dǎo)致邊膠的重要原因之一，這種情況下，在前次涂膠完成后，烘烤有助于防止在下次涂膠過程中光刻膠再次溶解，從而減小邊膠效應(yīng)。

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