• 什么叫光刻膠的正膠顯影和負(fù)膠顯影什么叫光刻膠的正膠顯影和負(fù)膠顯影正膠顯影：正性光刻膠的曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形。?負(fù)膠顯影：在負(fù)性光刻膠的非曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻...2022-10-18 08:22:43
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列光刻膠型號(hào)及參數(shù)光刻膠名稱(chēng)型號(hào)勻膠厚度規(guī)格MicroChem SU-8 負(fù)膠SU-8 2000.50.5-0.8μm100ml;500ml;1L;1...2024-03-28 10:07:48
• 微流控中的烘膠技術(shù)交聯(lián)強(qiáng)度逐漸增強(qiáng)，這可以顯著提高光刻膠對(duì)堿性或有機(jī)溶劑的化學(xué)穩(wěn)定性。對(duì)于負(fù)膠，烘烤可能會(huì)導(dǎo)致光刻膠交聯(lián)程度增加，特別是在負(fù)膠工藝中使用的堅(jiān)膜溫度高于...2025-01-07 10:20:54
• 光刻膠的一般特性介紹與光刻膠的選擇比或者lift-off層厚度加以綜合考慮。正膠的過(guò)曝過(guò)顯和負(fù)膠的過(guò)曝欠顯都會(huì)影響分辨率。烘烤溫度過(guò)高，使得光刻膠軟化流動(dòng)也會(huì)破壞曝光圖...2024-07-10 09:14:55
• 光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠，它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言，負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)膠工藝。應(yīng)用領(lǐng)域在反轉(zhuǎn)工藝下，通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)，可以獲得底切的側(cè)壁形態(tài)。這種方法的主要...2024-07-09 09:32:09
• 光刻膠去膠工藝常見(jiàn)。由于超短波輻射的穿透深度較低，所以只有光刻膠的表面受到交聯(lián)的影響。負(fù)膠在較高的溫度下處理其交聯(lián)可以通過(guò)后續(xù)的工藝步驟進(jìn)一步加強(qiáng)，這步會(huì)導(dǎo)致光刻...2024-07-05 09:43:47
• 微流控芯片一般光刻工藝過(guò)程增大曝光劑量，也取決于需要的分辨率，最大的分辨率要求最高的曝光劑量。對(duì)于負(fù)膠未曝光區(qū)域顯影30~40s厚度1-2um對(duì)應(yīng)的清零曝光劑量，這個(gè)曝光劑量...2024-07-04 09:13:40
• 光刻膠后烘技術(shù)光刻膠的種類(lèi)，通常在100-110℃的溫度下持續(xù)幾分鐘。圖形反轉(zhuǎn)膠和交聯(lián)負(fù)膠機(jī)理像AZ5214E這樣的圖形反轉(zhuǎn)膠在反轉(zhuǎn)工藝下需要在曝光后進(jìn)行后烘工藝...2024-07-03 09:15:13
• 光刻膠顯影在化學(xué)性質(zhì)上與未暴光的區(qū)域不同，在特定的化學(xué)溶液中選擇性的保留曝光區(qū)域（負(fù)膠）或者未曝光區(qū)域（正膠）的過(guò)程。從而獲得最終所需的光刻膠結(jié)構(gòu)。在前面的一...2024-07-02 09:36:33
• 光刻膠的硬烘烤技術(shù)，要求光刻膠側(cè)壁也必須保持垂直，我們推薦使用熱穩(wěn)定性更高的光刻膠或交聯(lián)型負(fù)膠來(lái)優(yōu)化工藝。當(dāng)然我們也可以利用這種光刻膠熱變形獲得一些特殊的結(jié)構(gòu)，這就是...2024-07-01 11:48:28