• 什么叫光刻膠的正膠顯影和負(fù)膠顯影什么叫光刻膠的正膠顯影和負(fù)膠顯影正膠顯影：正性光刻膠的曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形。?負(fù)膠顯影：在負(fù)性光刻膠的非曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶...2022-10-18 08:22:43
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列2140.5-6μm100ml;500ml;1L;1加侖AZ 50XT 正膠AZ 50XT40-80μm100ml;500ml;1夸脫AZ 9260...2024-03-28 10:07:48
• 微流控中的烘膠技術(shù)當(dāng)高的溶劑。而烘膠過程會進(jìn)一步減少殘留溶劑的含量。當(dāng)溫度超過140℃時(shí)，正膠膜結(jié)構(gòu)交聯(lián)，光刻膠穩(wěn)定性提高，并且隨著烘烤進(jìn)行，殘余溶劑含量進(jìn)一步降低，...2025-01-07 10:20:54
• 光刻膠再吸水蝕對未暴露的光刻膠在橫向和縱向上也有一定的影響。?圖2 不同再吸水條件下正膠顯影狀態(tài)。襯底一側(cè)光刻膠顯影越充分，即再吸水越完全，光刻膠的側(cè)壁可能越陡...2024-07-29 10:02:11
• 光刻膠的一般特性介紹率，但是膠厚必須與光刻膠的選擇比或者lift-off層厚度加以綜合考慮。正膠的過曝過顯和負(fù)膠的過曝欠顯都會影響分辨率。烘烤溫度過高，使得光刻膠軟化流...2024-07-10 09:14:55
• 光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言，負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)膠工藝。應(yīng)用領(lǐng)域在反轉(zhuǎn)工藝下，通過適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)，可以獲得底切的側(cè)壁形...2024-07-09 09:32:09
• 光刻膠去膠工藝光刻膠去膠劑進(jìn)行處理并且無殘留。如果去膠效果不良，應(yīng)考慮以下可能的原因:正膠在140℃左右開始熱交聯(lián)(例如在堅(jiān)膜、干法刻蝕或涂膠階段)，這大大降低了...2024-07-05 09:43:47
• 微流控芯片一般光刻工藝過程足，由于膠薄膜中有太多的溶劑，在脫氣過程中導(dǎo)致氣泡的形成?！扒辶銊┝俊睂?em style="font-style:normal;">正膠來說大面積曝光顯影一定時(shí)間后無結(jié)構(gòu)時(shí)對應(yīng)的曝光劑量。這個(gè)曝光劑量對于圖形...2024-07-04 09:13:40
• 光刻膠后烘技術(shù)工藝但是比較簡單，本文就以下一些應(yīng)用場景下介紹后烘的過程和作用?；瘜W(xué)放大正膠機(jī)理當(dāng)使用“正?！?em style="font-style:normal;">正膠時(shí)，曝光完成后光反應(yīng)也就完成了，但是化學(xué)放大的光刻...2024-07-03 09:15:13
• 光刻膠顯影區(qū)域不同，在特定的化學(xué)溶液中選擇性的保留曝光區(qū)域（負(fù)膠）或者未曝光區(qū)域（正膠）的過程。從而獲得最終所需的光刻膠結(jié)構(gòu)。在前面的一般光刻工藝過程中我們簡...2024-07-02 09:36:33