• SU-8光刻膠模具會用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的過程中。PDMS芯片加工通常采用軟光刻技術(shù)來制作。為了執(zhí)行PDMS軟光刻技術(shù)的加工過程，通常需要用到模板，最常...2025-05-12 17:33:43
• 光刻加工光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝光刻工藝（Photoetching or Lithography）是一種圖像復(fù)印技術(shù)，利用光刻膠感光后特性發(fā)生改變的原理，將光刻掩...2025-05-12 17:33:43
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡介新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8?膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問題，...2024-03-28 10:07:48
• 光刻掩膜版的儲存條件光刻掩膜版（Photomask）是光刻工藝中至關(guān)重要的工具，它直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。雖然直接關(guān)于光刻掩膜版的儲存條件的信息較少，但我們可以...2025-04-28 10:01:32
• 鉻板掩膜和光刻掩膜的區(qū)別掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展，特別是智能手機(jī)、平板電腦...2025-02-19 09:29:54
• 正性光刻對掩膜版有哪些要求正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面：基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因?yàn)樗哂休^低的...2025-02-17 09:46:14
• 晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來越廣，晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術(shù)在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質(zhì)量直接影響到晶圓生產(chǎn)的效率和質(zhì)量。本文將圍繞著晶圓表面光刻膠的涂覆與刮...2025-01-03 09:43:30
• 正性光刻對掩膜版的要求在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求：圖案準(zhǔn)確性...2024-12-20 09:48:27
• 微流控硅片在顯影后上有大量的光刻膠殘留是什么原因呢？微流控顯影后硅片上有大量的光刻膠殘留可能是由于多種因素造成的。以下是可能導(dǎo)致這種情況的一些原因和解決方法：可能的原因顯影液不足：顯影液的量不足可能導(dǎo)致顯影不完全，從而留下光刻...2024-10-31 08:52:04
• 光刻掩膜和光刻模具的關(guān)系光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用，但它們的功能和應(yīng)用有所不同。光刻掩膜版光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的圖...2024-10-14 09:14:32