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微通道反應(yīng)器內(nèi)硫酸鋇沉積行為

硫酸鋇是石油生產(chǎn)過程中經(jīng)常遇到的難以清除的垢。微通道反應(yīng)器內(nèi)對(duì)硫酸鋇沉積行為進(jìn)行較詳細(xì)的研究。采用火焰原子吸收法和壓差法分別測(cè)量鋇濃度變化和微通道管段間的壓力變化,考察微通道管長(zhǎng)、流量、濃度及溫度等因素對(duì)模擬油田水在微通道反應(yīng)器內(nèi)硫酸鋇沉積行為的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,隨著管路增長(zhǎng)、流量增大、濃度增加,微通道中硫酸鋇的沉積速率加快,沉積量增多,且呈非線性增加趨勢(shì),而溫度升高使得微通道管路中離子擴(kuò)散加快,硫酸鋇沉積速率增大,但由于溫度的小幅度升高并沒有使硫酸鋇溶度積發(fā)生明顯變化,因此硫酸鋇沉積量增加較少。采用掃描電鏡觀察管道內(nèi)進(jìn)出口處硫酸鋇的結(jié)垢形態(tài),驗(yàn)證了不同因素對(duì)管路沉積情況和結(jié)晶形態(tài)的變化。研究得出受結(jié)晶成核的影響,管道內(nèi)硫酸鋇的沉積結(jié)垢并非均勻簡(jiǎn)單的沉積過程,其晶粒形成可分為兩個(gè)階段,即成核階段和晶體生長(zhǎng)階段。

1實(shí)驗(yàn)部分

實(shí)驗(yàn)裝置與儀器

實(shí)驗(yàn)采用的微通道反應(yīng)器為外徑3mm、內(nèi)徑1.0mm316內(nèi)外拋光的不銹鋼材質(zhì)毛細(xì)管。實(shí)驗(yàn)裝置如圖1所示,主要由活塞式計(jì)量泵(輸送硫酸鈉溶液和氯化鋇溶液)、T型混合器、微通道反應(yīng)器、壓差計(jì)、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)等組成。


實(shí)驗(yàn)裝置 

1實(shí)驗(yàn)裝置

不銹鋼毛細(xì)管;ZPB1300C型計(jì)量泵;PMD-1208LS型A/D數(shù)據(jù)采集卡;FEIQuanta200型掃描電子顯微鏡(SEM)。實(shí)驗(yàn)所用試劑:硫酸鈉,分析純;氯化鋇,分析純;氫氧化鈉,分析純;二乙基三胺五乙酸(DTPA),化學(xué)純。

分別選取管長(zhǎng)為0.10、0.20、0.30m的微通道管路,等濃度的氯化鋇和硫酸鈉溶液由計(jì)量泵等流量打入預(yù)混合器,設(shè)定兩種溶液的流量分別為4、7、10ml·min?1?;旌虾笮纬傻木w顆粒沿微通道管路流動(dòng),沉積在其內(nèi)表面上,實(shí)時(shí)測(cè)量管路壓差,其數(shù)據(jù)通過采集信號(hào)傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中。管路壓差進(jìn)行分段測(cè)量,以10cm為單位,從上到下分別標(biāo)注為1#、2#、3#。

對(duì)采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行測(cè)試分析。在微通道反應(yīng)器出口采樣,通過火焰原子吸收分光光度法測(cè)定出口液體中鋇離子吸收強(qiáng)度,根據(jù)吸光度與樣品中鋇濃度關(guān)系,并與標(biāo)準(zhǔn)線進(jìn)行比較可得到鋇離子含量。

實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)處理

管道內(nèi)硫酸鋇的沉積反應(yīng)


管道內(nèi)硫酸鋇的沉積反應(yīng) 

流動(dòng)。硫酸鋇在管路中的沉積對(duì)壓降有一定影響,通過實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)壓差的變化來反映管路中其他變量。由以上公式可以得到流體流動(dòng)方程,即HagenPoiseuille方程


HagenPoiseuille方程 

2結(jié)果討論

2.1不同參數(shù)對(duì)微通道管路沉積的影響

2.1.1管長(zhǎng)對(duì)微通道管路沉積的影響圖2是在反應(yīng)溫度25℃,管道中流體入口濃度0.5mmol·L?1,流量4ml·min?1條件下管長(zhǎng)對(duì)微通道管路壓差和出口濃度的影響。從圖中可以看出,反應(yīng)時(shí)間增加,微通道管路內(nèi)壓差增大,且隨著管路增長(zhǎng),反應(yīng)的沉積時(shí)間與壓差突變時(shí)間相應(yīng)變短。可能是因?yàn)榉磻?yīng)初期形成的硫酸鋇晶胚生長(zhǎng)為微觀的晶粒需要一定的成核時(shí)間,10cm反應(yīng)管內(nèi)硫酸鋇的沉積量較少,壓差突變時(shí)間較長(zhǎng);隨著管路增長(zhǎng),晶粒沉積機(jī)會(huì)增大,更易發(fā)生沉積結(jié)垢,因此,20cm和30cm管路的硫酸鋇沉積量增多,壓差突變時(shí)間變短。

從圖2還可以得出,隨著管長(zhǎng)增加,管路的出口濃度降低,濃度變化曲線斜率逐漸增大,20cm管長(zhǎng)的濃度變化尤為明顯。這與文獻(xiàn)[12]反應(yīng)動(dòng)力學(xué)系數(shù)的管長(zhǎng)因素的研究結(jié)果一致。從圖2沉積速率曲線可以看出,微通道內(nèi)反應(yīng)初期硫酸鋇顆粒的沉積速率較小,反應(yīng)后期則呈非線性增加趨勢(shì)。隨著管路增長(zhǎng),硫酸鋇的沉積速率隨之增加,且沉積較多發(fā)生在管路后部分。因?yàn)樵诜磻?yīng)初期鋇離子與硫酸根離子相互碰撞形成硫酸鋇晶核,反應(yīng)后期硫酸鋇在晶核表面繼續(xù)沉積,使晶體得到生長(zhǎng),硫酸鋇沉積速率加快,因此反應(yīng)后期微通道反應(yīng)器中硫酸鋇的沉積速率增大。


管長(zhǎng)對(duì)微通道管路沉積的影響 管長(zhǎng)對(duì)微通道管路沉積的影響 

2管長(zhǎng)對(duì)微通道管路沉積的影響

2.1.2流量對(duì)微通道管路沉積的影響

3是在反應(yīng)溫度25℃,管長(zhǎng)10cm,管道中流體入口濃度0.5mmol·L?1條件下流量對(duì)微通道管路的出口濃度和壓差的影響。從圖中可以看出,溶液中濃度變化曲線逐漸變陡,斜率增大。這可能是因?yàn)榱髁康脑黾邮沟脝挝粫r(shí)間內(nèi)溶液中離子增多,有更多的硫酸鋇晶核生成,反應(yīng)液濃度降低。由圖3還可以得出,反應(yīng)的總沉積時(shí)間和管路壓差曲線的突變時(shí)間隨流量的增加而變短,且同管長(zhǎng)相似,硫酸鋇沉積速率在反應(yīng)初期增加緩慢,反應(yīng)后期則非線性增加,10ml·min?1流量下的沉積速率最為明顯。因?yàn)榱髁吭龃?,微通道中單位時(shí)間內(nèi)離子濃度增加,硫酸鋇發(fā)生沉積的可能性增大,沉積速率迅速增加。


流量對(duì)微通道管路沉積的影響 

3流量對(duì)微通道管路沉積的影響

2.1.3濃度對(duì)微通道管路沉積的影響

4是在反應(yīng)溫度25℃,管長(zhǎng)10cm,流量4ml·min?1條件下管道中流體入口濃度對(duì)微通道管路出口濃度和壓差的影響。從圖中可以看出,隨著溶液濃度增加,反應(yīng)前后進(jìn)出口的濃差范圍增大,濃度變化曲線變陡,斜率增大。微通道內(nèi)硫酸鋇沉積時(shí)間明顯變短,且反應(yīng)的壓差突變時(shí)間也相應(yīng)變短??赡茉蚴枪苈穬?nèi)入口濃度增大,單位時(shí)間內(nèi)溶液中鋇離子和硫酸根離子增多,結(jié)晶速率增大,微通道中硫酸鋇沉積量增加,濃度迅速降低。也可能因?yàn)闈舛仍黾?,管?nèi)壁的晶粒生成速率加快,晶體的生長(zhǎng)階段提前,硫酸鋇沉積時(shí)間縮短。從圖中還可以看出,微通道內(nèi)硫酸鋇的沉積速率隨濃度的增大而加快,且呈非線性增加趨勢(shì)。這表明硫酸鋇晶核在管路內(nèi)壁上形成后,晶核表面硫酸鋇晶粒繼續(xù)沉積,使晶體得到生長(zhǎng),沉積速率加快,這與文獻(xiàn)[30]研究的濃度對(duì)硫酸鋇結(jié)垢量的影響規(guī)律相一致。


入口濃度對(duì)微通道管路沉積的影響 

4入口濃度對(duì)微通道管路沉積的影響

2.1.4溫度對(duì)微通道管路沉積的影響

5是在管長(zhǎng)10cm,流量4ml·min?1,管道中流體入口濃度0.5mmol·L?1條件下反應(yīng)溫度對(duì)微通道管路出口濃度和壓差的影響。從圖中可以看出,隨著反應(yīng)進(jìn)行,微通道管路出口濃度降低,濃度曲線斜率隨溫度升高而增大。這種現(xiàn)象可以解釋為溫度升高使得管道內(nèi)反應(yīng)液的離子擴(kuò)散加快,硫酸根離子與鋇離子碰撞結(jié)合的概率增大,結(jié)晶過程中硫酸鋇晶核生長(zhǎng)速率增加,沉積速率變大,出口濃度降低。由于溫度的變化對(duì)硫酸鋇的溶度積變化較小[31],溫度適當(dāng)升高可能主要使離子擴(kuò)散加快這一因素占主導(dǎo)。由圖5還可以得出,溫度升高,微通道內(nèi)硫酸鋇總沉積時(shí)間變短,壓差突變時(shí)間縮短,硫酸鋇沉積速率呈非線性增加的趨勢(shì)也更為明顯??赡茉蚴菧囟壬?,溶液中離子擴(kuò)散加快,微通道管路內(nèi)壁上硫酸鋇晶粒形成的速率增大,沉積在管路內(nèi)的硫酸鋇結(jié)垢量增加,沉積時(shí)間變短。

2.2微通道管路內(nèi)硫酸鋇的沉積機(jī)理

根據(jù)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),得到微通道反應(yīng)器中硫酸鋇沉積速率變化曲線趨勢(shì),如圖5(b)所示。沉積曲線大致描繪了硫酸鋇在管道過程中的沉積現(xiàn)象。

溫度對(duì)微通道管路沉積的影響 

5溫度對(duì)微通道管路沉積的影響

從圖中可以看出,管道內(nèi)硫酸鋇沉積過程可分為兩個(gè)階段,即初期的成核階段[圖5(b)Ⅰ段]和后期的晶體生長(zhǎng)階段[圖5(b)Ⅱ段],這與Mavredaki等[32]采用石英晶體微天平確定的沉積過程的兩個(gè)階段相符合。反應(yīng)初期階段,鋇離子與硫酸根離子在溶液中發(fā)生碰撞,鋇離子的總濃度變化很小,且硫酸鋇沉積速率較小,增加較為緩慢,同時(shí)沉積速率與脫落速率之間形成動(dòng)力學(xué)平衡區(qū),因此該階段的濃度變化及壓力變化較小,也稱為誘導(dǎo)過渡期。第2個(gè)階段為不均勻沉積過程,反應(yīng)初期形成晶核后,在該階段進(jìn)一步長(zhǎng)大為宏觀的晶體,從而在管路中沉積。在該階段中,晶體生長(zhǎng)速率加快,硫酸鋇沉積量增多,發(fā)生非均勻成核現(xiàn)象,形成不穩(wěn)定的非均勻區(qū)。晶體在微觀形貌上趨向于樹葉狀。根據(jù)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)得到,隨著管長(zhǎng)增加,20cm第2段管路內(nèi)發(fā)生的硫酸鋇沉積速率增加最快,且流量、濃度的增大,都會(huì)加快晶核表面硫酸鋇晶體的生長(zhǎng)。

2.3不同條件下微通道管路沉積的掃描電鏡圖

2.3.1微通道管路進(jìn)出口處的SEM圖

6為微通道管路進(jìn)出口處的SEM圖。根據(jù)圖中比較可以得到,管路出口處的沉積厚度與進(jìn)口處相比明顯增加,說明隨著管路內(nèi)反應(yīng)液的流動(dòng),硫酸鋇晶粒逐漸在管道內(nèi)表面沉積。管路進(jìn)口處的硫酸鋇晶粒較少,屬于反應(yīng)初期階段,發(fā)生結(jié)晶成核,反應(yīng)后期硫酸鋇晶體的沉積受已生成晶核的影響,逐漸沉積至晶核表面,且隨著流體流動(dòng),管路出口處的硫酸鋇晶粒增多,沉積量增加。

微通道管路進(jìn)出口的SEM圖 

6微通道管路進(jìn)出口的SEM圖

2.3.2不同管長(zhǎng)條件下微通道管路沉積的SEM圖

7為不同管長(zhǎng)微通道出口的SEM圖。從圖中可以看出,隨著管長(zhǎng)的增加,管道出口處沉積的硫酸鋇垢厚度明顯增大,沉積量增加。這是因?yàn)樵诜磻?yīng)初期,管內(nèi)壁上有硫酸鋇晶核形成,成核速率較慢,隨著反應(yīng)進(jìn)行,硫酸鋇不斷沉積在晶核表面,使晶體繼續(xù)生長(zhǎng),沉積速率加快,因此管路增長(zhǎng),形成的硫酸鋇晶核增多,沉積量隨之增加,管路出口處的沉積厚度增大,這恰好驗(yàn)證了前面所述的硫酸鋇沉積機(jī)理。

不同管長(zhǎng)微通道出口的SEM圖 

7不同管長(zhǎng)微通道出口的SEM圖

2.3.3不同流量條件下微通道管路沉積的SEM圖

8為不同流量下微通道管路出口的SEM圖??梢钥闯?,同管長(zhǎng)的影響相似,隨著反應(yīng)液流量增大,管路出口處硫酸鋇垢的沉積厚度明顯增加,沉積量增多??赡茉蚴橇髁吭龃笫沟脝挝粫r(shí)間內(nèi)溶液中離子增多,硫酸鋇晶核形成的可能性增大,微通道管路內(nèi)沉積的硫酸鋇晶體增多,這與前面描述的硫酸鋇沉積速率的變化趨勢(shì)相一致。

不同流量下微通道管路出口的SEM圖 

8不同流量下微通道管路出口的SEM圖

2.3.4不同溫度條件下微通道管路沉積的SEM圖

9為不同溫度微通道管路出口的SEM圖。從圖中可以看出,不同溫度下管路的結(jié)垢情況無明顯差異??赡茉蚴菧囟鹊男》壬?,硫酸鋇的溶度積變化很小,微通道管路中的硫酸鋇沉積量變化較少。

不同溫度微通道管路出口的SEM圖 

9不同溫度微通道管路出口的SEM圖

3結(jié)論

采用火焰原子吸收法和壓差法考察了不同反應(yīng)條件對(duì)微通道反應(yīng)器內(nèi)硫酸鋇沉積行為的影響。結(jié)果發(fā)現(xiàn),隨著管路增長(zhǎng),流量增大,濃度增加,微通道中硫酸鋇的沉積速率加快,沉積量增多,且呈非線性增加趨勢(shì);而溫度升高使得微通道管路中離子擴(kuò)散加快,硫酸鋇沉積速率增大,但由于溫度的小幅度升高并沒有使硫酸鋇溶度積發(fā)生明顯變化,因此硫酸鋇沉積量增加較少。

受結(jié)晶成核的影響,微通道管路內(nèi)硫酸鋇的沉積并非均勻穩(wěn)定的沉積過程,其管道內(nèi)硫酸鋇晶粒的形成可分為兩個(gè)階段,即成核階段和晶體生長(zhǎng)階段。

符號(hào)說明

符號(hào)說明