光刻工藝的應用行業(yè) 2015-01-30 15:23:03 蘇州汶顥微流控技術股份有限公司 已讀 晶體三極管、二極管、電容、電阻和金屬層的各種物理部件在晶圓表面或表層內構成。 光刻生產的目標是根據電路設計的要求，生成尺寸精確的特征圖形 光刻是所有四個基本工藝中最關鍵的。 光刻確定了器件的關鍵尺寸。光刻過程中的錯誤可造成圖形歪曲或套準不好，最終可轉化為對器件的電特性產生影響。圖形的錯位也會導致類似的不良結果。 光刻工藝中的另一個問題是缺陷。光刻是高科技版本的照相術，只不過是在難以置信的微小尺寸下完成。 在制程中的污染物會造成缺陷。事實上由于光刻在晶圓生產過程中要完成5層至20層或更多，所以污染問題將會放大。 標簽: 光刻工藝 應用行業(yè) 光刻機 上一條移液器的常見問題 下一條完整的微流控芯片實驗室需要什么？
