什么是等離子清洗機(jī)？

等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。

等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。 

等離子清洗機(jī)的工作原理：

　　等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、業(yè)態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態(tài)存在，如太陽(yáng)表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱位物質(zhì)的第四態(tài)。

等離子體中存在下列物質(zhì)。處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應(yīng)過(guò)程中生成的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

在真空腔體里，通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，以達(dá)到清洗目的。

等離子清洗的特點(diǎn):

與濕法清洗相比，等離子清洗的上風(fēng)表現(xiàn)在以下8個(gè)方面： 

    　?。?）在經(jīng)過(guò)等離子清洗以后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。

  　　  （2）不使用三氯乙甲ODS有害溶劑，清洗后也不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。

    　?。?）用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，它的方向性不強(qiáng)，因此它可以深進(jìn)物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù)，所以不必過(guò)多考慮被清洗物體外形的影響，而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更好。

    　?。?）整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點(diǎn)。

    　?。?）等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種真空度在工廠實(shí)際生產(chǎn)中很輕易實(shí)現(xiàn)。這種裝置的設(shè)備本錢不高，加上清洗過(guò)程不需要使用價(jià)格昂貴的有機(jī)溶劑，因此它的運(yùn)行本錢要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。

    　?。?）由于不需要對(duì)清洗液進(jìn)行運(yùn)輸、貯存、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場(chǎng)地很輕易保持清潔衛(wèi)生。

    　　（7）等離子清洗的最大技術(shù)特點(diǎn)是：它不分處理對(duì)象，可處理不同的基材，無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、據(jù)四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可用等離子體很好地處理，因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。（8）在完成清楚往污的同時(shí)，還能改變材料本身的表面性能，如進(jìn)步表面的潤(rùn)濕性能，改善膜的附著力等，這在很多應(yīng)用中都是非常重要的。